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更新時間：2024-08-27 
瀏覽次數(shù)：31簡單且功能齊全的濺射沉積裝置，用于可重復的薄膜層應用。即插即用的緊湊設計。
工藝室包含3個磁控濺射源端口（用于金屬和無機物），采用濺射向下配置安裝。最多可同時使用兩個源（共沉積）基底臺適用于直徑最大2英寸的樣品，具有加熱和旋轉(zhuǎn)選項。
特征
1.即插即用結構
2.易于使用的移動裝置，可快速測試和濺射涂層
3.處理室配有大型真空門，方便更換靶材或基材
4.配備MS2 100 ISO-K 磁控管源和新型M600DC-PS 電源
5.可承載直徑達 2英寸樣品 的基片臺
6.加工室直徑：Ø 355 毫米
7.3 個2 英寸磁控管源端口
8.1 個視口 – 帶百葉窗的觀察窗
9.防止交叉污染的保護屏障
10.基準壓力范圍 10 -7 mbar
11.帶真空計的快速抽氣系統(tǒng)
12.通過質(zhì)量流量控制自動計量氬氣
描述
快速泵送系統(tǒng)（帶有手動節(jié)流閥）與小容量的工藝室相結合，使您能夠在短時間內(nèi)達到基準壓力。
工藝室配備HV標準的連接法蘭，用于連接現(xiàn)有和未來的設備，包括： 最多 3 個2” 磁控管源，基板操縱器，泵送系統(tǒng)m,防止交叉污染的保護盾，石英天平，視口 - 帶百葉窗的觀察窗，真空計，高溫計。
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