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IS-POLISHER精密小型試樣研磨機(jī)ISPP-1000的特長介紹

更新時(shí)間:2024-06-28      瀏覽次數(shù):82


日本IS-POLISHER精密小型試樣研磨機(jī)ISPP-1000的特長介紹

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ISPP-1000是以研磨較小的試樣為目的而開發(fā)的,擅長于以電子顯微鏡為首的各種分析分析用的試樣研磨。


特長

CP用試樣的預(yù)處理研磨


直接安裝橫截面拋光機(jī)離子銑削用的試料載置臺(tái),備有可輕松形成研磨面直角的專用試料支架!


僅用ISPP就能給出EBSD的晶體取向面

通過研磨時(shí)間、研磨壓、速度、擺動(dòng)動(dòng)作的設(shè)定、獨(dú)的創(chuàng)的試樣保持、研磨量調(diào)整機(jī)構(gòu),可以進(jìn)行對(duì)組織結(jié)構(gòu)損傷較少的研磨。 

另外,通過使用可選的配重消除器,可以進(jìn)一步減輕試樣的負(fù)擔(dān),將損傷抑制在最小限度。

輕松實(shí)現(xiàn)高放大率的傾斜研磨

在ISPP中,通過在試料支架上安裝可選的萬向調(diào)整器,可以通過2個(gè)微型單元在各個(gè)方向上最多調(diào)整6度,在整個(gè)圓周方向上調(diào)整

傾斜角。 微分辨率相當(dāng)于每存儲(chǔ)器0.02度。 為了得到高放大率的淺傾斜角也可以高精度地設(shè)定。

半導(dǎo)體截面樣品制作又快又漂亮

備有可以直接夾緊器件的結(jié)構(gòu)的試料支架。 由此,不需要包埋處理的時(shí)間,可以實(shí)現(xiàn)壓倒性的分析TAT縮短。


規(guī)格選項(xiàng)

尺寸框體部
( w ) 205毫米×( d ) 225毫米×( h ) 155毫米
10公斤
設(shè)置空間( w ) 335mm×(D ) 260mm×(H ) 330mm
除了突起部
磨盤φ110mm
電源AC100~240V
50/60Hz
65W(max )

系統(tǒng)結(jié)構(gòu)

主體套件研磨機(jī)主體倒立光顯微鏡
(物鏡10倍/目鏡20倍)
廢液罐
1個(gè)研磨盤
交流適配器
刀柄組件金屬材料用擺臂、配重塊
平面用支架、標(biāo)準(zhǔn)支架
半導(dǎo)體電子部件用擺臂、配重塊
集成電路支架、標(biāo)準(zhǔn)支架*1
選項(xiàng)物鏡4倍、20倍
目鏡16倍、10倍*2
顯微鏡用照相機(jī)單元PC用USB輸出型
粗微動(dòng)
千分尺
最小分辨率1μm
磨盤SUS440C HRC55

消耗品

磨料耐水紙型600#、800#、1200#、1500#
膠片類型D AO SC 1μm、3μm、5μm、9μm
磨光型絨面革墊、尼龍墊(織布)
鉆石輪電沉積/400#、800#
樹脂/600#、800#
金剛石漿料0.5μm、1μm、3μm (噴射式)
膠體二氧化硅各種


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