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PIE SCIENTIFIC 研究實(shí)驗(yàn)室自動(dòng)臺(tái)式等離子清潔器 Tergeo Plasma Cleaner

更新時(shí)間：2023-11-14      瀏覽次數(shù)：191

用于研究實(shí)驗(yàn)室和小批量生產(chǎn)的自動(dòng)臺(tái)式等離子清潔器

Laboratory Plasma Cleaner for PDMS bonding, photoresist descum, sample surface cleaning, 2D materials research

典型應(yīng)用:

  • 引線(xiàn)接合、倒裝芯片底部填充、器件封裝和解封裝

  • 用于碳質(zhì)污染物去除和氧化物還原的SEM/TEM樣品清潔

  • 生物醫(yī)用涂層前的表面處理及提高醫(yī)用植入物的親水性

  • 環(huán)氧樹(shù)脂粘合前的光學(xué)、玻璃和基板清潔

  • 光刻膠灰化、去渣和硅晶片清洗

  • PDMS、微流體、載玻片和芯片實(shí)驗(yàn)室

  • 金屬與金屬或復(fù)合材料改進(jìn)結(jié)合

  • 塑料、聚合物和復(fù)合材料改進(jìn)粘合

點(diǎn)擊此處了解更多關(guān)于Tergeo等離子清潔器優(yōu)于競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的優(yōu)勢(shì)

特點(diǎn):

  • 德國(guó)萊茵TV認(rèn)證并確認(rèn)

    UL、獨(dú)立選舉委員會(huì)和加空局

    61010-1安全標(biāo)準(zhǔn)。

    NRTL

    順從！
  • 清洗模式:直接模式和下游模式。用于兩種等離子體清洗模式的雙等離子體源。用于高速蝕刻和表面改性的直接模式等離子體清洗:遠(yuǎn)程/下游模式等離子體清洗，用于溫和去除表面污染物，例如SEM/TEM樣品清洗。
  • 連續(xù)和脈沖等離子體。脈沖比可以從100%(連續(xù))變化到小于1%。Tergeo等離子體系統(tǒng)不僅能以1瓦的間隔調(diào)節(jié)射頻功率，還能產(chǎn)生連續(xù)的脈沖等離子體。改變等離子體強(qiáng)度幾個(gè)數(shù)量級(jí)以上。
  • 操作方法:自動(dòng)配方執(zhí)行；自動(dòng)作業(yè)序列執(zhí)行；人工操作。
  • 等離子體傳感器:雙等離子體強(qiáng)度傳感器(專(zhuān)的利的申請(qǐng)中)監(jiān)控原位等離子體源和遠(yuǎn)程等離子體源。等離子體強(qiáng)度實(shí)時(shí)顯示在LCD觸摸屏上。
  • 先進(jìn)的過(guò)程控制功能:壓力傳感器、溫度傳感器、MFC中的氣體流量計(jì)、雙等離子體強(qiáng)度傳感器、自動(dòng)阻抗匹配。
  • 腔室材料:鋁法蘭和厚壁高純度石英管增強(qiáng)了耐化學(xué)性，減少了耐熱玻璃中的堿性雜質(zhì)(鈣、鉀、鈉)。
  • 石英腔尺寸:內(nèi)徑:110mm外徑:120mm深度280毫米
  • 樣品架:2mm厚的高純度石英板
  • rf天線(xiàn):外部RF電極和天線(xiàn)設(shè)計(jì)減少了在具有內(nèi)部金屬電極的等離子體清潔器中發(fā)現(xiàn)的金屬濺射問(wèn)題。
  • 射頻電源:13.56MHz高頻射頻電源，自動(dòng)阻抗匹配，用于原位等離子體源。射頻功率有0-75瓦和0-150瓦兩種選擇，間隔1瓦。13.56MHz射頻電源產(chǎn)生的等離子體密度比KHz電源高得多。
  • 氣體輸入:最多三個(gè)質(zhì)量流量控制氣體輸入(0~100sccm)。一個(gè)用于通風(fēng)和吹掃的附加端口。英制世偉洛克壓縮接頭連接器。
  • 用戶(hù)界面:7英寸電阻觸摸屏，用手指觸摸，無(wú)需手寫(xiě)筆。
  • 食譜和工作支持:總共20個(gè)可定制的食譜。作業(yè)序列中最多三個(gè)清洗步驟。


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